Hallo Zusammen!
Ich modelliere zur Zeit einen 3-Punktbiegeversuch in 2D. Das hat auch soweit alles ganz gut geklappt.
Bild 1 zeigt das Modell. Auf einer 0,7mm dicken Glasplatte sind mehrere Schichten aufgetragen die sich im Mikrometerbereich (Bild2) bewegen und eine Schicht im Nanometerbereich (Bild3). Von oben drückt ein Prüfkörper auf die Glasplatte und rechts ist sie auf einem Stab gelagert.
Nun würde/muss ich das Modell vernetzen. Ich habe persönlich Erfahrung mit der Vernetzung von normal großeb Bauteilen und was das an Einstellungen und Rechenzeit erfordert. Nur bin ich gerade bei der Nanometergeschichte etwas überfragt was ich da für Einstellungen genau wählen muss.
Bisher habe ich den beiden Stäben eine eigene Methode (Vierecke dominant) und Elementgröße von 1mm zugeordnet. Die bekommt er auch schnell vernetzt.
Für das Glas und die diversen Schichten habe ich seperat auch diese Methode gewählt nur habe ich jeder Schicht eine eigene Elementgröße zugeordnet. Z.b ist die Nanometerschicht 450nm dick und so habe ich gesagt, dass die Elementgröße 225nm betragen soll.
Leider hängt sich Ansys dabei auf bzw. rechnet sehr lange (ich habe mal 2 Stunden gewartet, aber nichts ist passiert).
Ich weiß aus meinen Problem mit dem Kontakteinstellungen, dass man vermutlich einiges an Einstellungen von den Standardeinstellungen her abweichend einstellen muss. Nur welche und was wäre dort sinnvoll?
Meine kleinste Fläche ist 450nm dick und meine größte ist 0,7mm dick
Vielleicht hat jemand ein paar Tipps für mich wie man die Elementgröße global sinnvoll einstellt und auch auf die einzelnen Flächen bezogen.
Mfg und Danke,
Daniel
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