E-FEld bei einem Plattenkondensator simulieren (FEM / Genormte Berechnungen/ANSYS)

Hallo,
ich will als Einstiegsaufgabe das E-Feld in einem Plattenkondensator mit quergeschichtetem Dielektrikum mit Ansys Workbench simuliern, so wie im Anhang.
Ich erstelle also 2 gefrorenen Oberflächen, und bekomme daraus 2 Schalenkörper. Dann weise ich jedem Körper mit dem Befehl: "mp,perx,matid,relativePermittivität" eine relative Permittivität zu. Dann lege ich noch an der oberen Kannte +200 V an, an der unteren -200V, und lass das Prgramm rechnen.
Als Ergebniss ist das E-Feld über beide Bereiche konstant. Eigentlich sollte es aber in dem einem Bereich höher sein, als in dem anderen. Was habe nich vergessen. Ich hab auch mal das Projektarchiv in den Anhang gesteckt, villeivht kann es jemand ja auch so verändern, dass das richtige Feldlinienbild angezeigt wird.

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