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  Problem bei thermisch transienter Analyse mit Strahlung in Ansys WB

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Gut zu wissen: Hilfreiche Tipps und Tricks aus der Praxis prägnant, und auf den Punkt gebracht für Ansys
Autor Thema:  Problem bei thermisch transienter Analyse mit Strahlung in Ansys WB (408 mal gelesen)
Shotputchef
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Ingenieur

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Beiträge: 3
Registriert: 14.03.2018

erstellt am: 14. Mrz. 2018 15:17    Editieren oder löschen Sie diesen Beitrag!  <-- editieren / zitieren -->   Antwort mit Zitat in Fett Antwort mit kursivem Zitat    Unities abgeben: 1 Unity (wenig hilfreich, aber dennoch)2 Unities3 Unities4 Unities5 Unities6 Unities7 Unities8 Unities9 Unities10 Unities

Hallo Leute!
Erstmal muss ich mich für die immer sehr guten Tipps, Tricks, Kniffe udn Hilfestellungen ghier im Forum bei euch bedanken!
Bisher war ich nur stiller Zuschauer/Zuhörer, aber jetzt komme ich zu einem Problem, zu dem ich selbst hier im Forum keien Lösung finden konnte.

Ich bin Ansys-Neuling und arbeite eigentlich (bisher) ausschließlich mit Workbench. Darin habe ich auch folgendne Problem nachgestellt.
Der (mehr oder weniger) real dahinter stehden Anwendungsfall ist der folgende:

Eine rechteckige Metallplatte soll durch eine einzelne Strahlerröhre durch Strahlung erwärmt werden. Insbesondere ist die Temperatur auf der unbestrahlten Seite von Interesse.

In Ansys habe ich das ganze auf ein 2D-Problem zurückgeführt. Ich habe also eine Kreisfläche, deren Mittelpunkt 50 mm weit von der Plattenoberfläche entfernt liegt. Diese soll die Strahlerröhre symbolisieren. Des Weiteren liegt der Kreis direkt mittig über der Platte.
Die Platte ist als Rechteck modelliert mit einer Höhe von 200 mm und einer Dicke von 1 mm.
Der Kreis hat eien Durchmesser von 5mm.

Zunächst lasse ich eien termisch stationäre Analyse durchlaufen, um dem Kreis eien Anfangstemperatur von 2400K zu geben.

Die Ergebnisse übertrage ich in eine transiente Analyse, wo ich sie dann über das Sub-Modeling einlese.
Als RB lege ich perfekte Isolierung für alle Seiten der Platte, außer der bestrahlten Seite fest.
Danach lege ich für die Kante des Kreises die Bedingung Strahlung als "Oberfläche zu Oberfläche" mit dem Hüllkörper "1" fest. Die Emissivität soll zunächst einfach 1 sein (schwarzer Strahler).
Die bestrahlte Seite der Platte bekommt ebenfalls die Bedingung Strahlung "Oberfläche zu Oberfläche". Als Hüllkörper nehme ich wieder die "1". Die Emessivität stelle ich auf 0,07 ein.

Als Lösung möchte ich die Temperaturverteilung im Plattenquerschnitt erhalten.
Das Problem ist jetzt, dass keien sinnvolle Lösung dabei herauskommt.

Selbst nach 100 Sekunden hat sich die Platte im heißesten Punkt (direkt unter dem Strahler) gerade einmal von 22°C auf etwa 41°C erwärmt.
Das kann einfach nicht sein. Zum einen wissen wir wahrscheinlich alle aus Erfahrung, dass ich mir allein dadurch die Hand verbrennen kann, wenn ich diese über eien Herdplatte halte, ohne die Herdplatte zu berühren udn zum anderen habe ich auch eine vereinfachte analytische Berechnung durchgeführt, die eine viel höhere Temperatur aufzeigt.

Deshalb gehe ich jetzt ma dvon aus, dass ich irgendetwas falsch eingestellt habe.

Die Frage ist jetzt nur: WAS?
Ich muss anmeren, dass ich mit Ansys 19 arbeite und mmentan nur die Studentversion zur Verfügung habe.

Ich hoffe, ihr könnt mir weiterhelfen.

Vielen Dank schon mal vorab!

Gruß

Shotputchef

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